Boek
Nitrogen Incorporation Into High-K Gate Dielectrics
Evaluation of nitrogen incorporation effects in HfO2 and HfSiO gate dielectrics for improved MOSFET performance «
Score:
Aantal recensies:
Aantal keer getipt:
Aantal keer gelezen:
Auteur(s):
Categorie:
ISBN
9783639157055
Welkom op Boeklezers.nl
Boeklezers.nl is een netwerk voor sociaal lezen. Wij helpen lezers nieuwe boeken en schrijvers ontdekken, en brengen lezers met elkaar en schrijvers in contact. Meer lezen »
Recensies van Nitrogen Incorporation Into High-K Gate Dielectrics door Hag-Ju Cho
Nitrogen Incorporation Into High-K Gate Dielectrics is 0 keer gerecenseerd. De gemiddelde score is . Het boek is 0 keer gelezen.
Er zijn nog geen recensies voor dit boek.
Ideeënbus
