Boek

Hafnium Oxide And Hafnium Silicate For High-k Application

Characterization of Hafnium Based Oxide Thin Films Deposited by CVD «

Score:

(3/0)

Aantal recensies:

0

Aantal keer getipt:

0

Aantal keer gelezen:

0

Auteur(s):

Harish Bhandari

Categorie:

ISBN

9783838333885

Welkom op Boeklezers.nl

Boeklezers.nl is een netwerk voor sociaal lezen. Wij helpen lezers nieuwe boeken en schrijvers ontdekken, en brengen lezers met elkaar en schrijvers in contact. Meer lezen »

Er zijn nog geen berichten geplaatst op het prikbord van Hafnium Oxide And Hafnium Silicate For High-k Application.